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2013-10-22
非选择题(182分)
三、非选择题:本大题54分,解答题应写出必要的文 字说明、方程式和重要演算步骤,只写出最后答案的不能得分。有数值计算的题,答 案中必须明确写出数值和单位。)
26. (16分)蜂毒素是工蜂毒腺分泌的多肽,具有抗菌、抗病毒及抗肿瘤等广泛的生物学效应。体外研究发现,蜂毒素对多种癌细胞具有强烈的杀伤作用。请回答:
(1)在工蜂毒腺细胞的核糖体上,蜂毒素是以 为模板合成的。
(2)在适宜条件下进行体外培养,癌细胞能够 ,在此过程中细胞内的DNA含量将持续出现周期性的变化。下图-1表示癌细胞在一定浓度的蜂毒素培养液中培养一定时间后,DNA含量不同的细胞数。据此推测,蜂毒素能将癌细胞阻断在有丝分裂的
期。当 突变时,细胞由正常细胞变为癌细胞。
(3)研究表明,阻断癌细胞增殖周期可引起细胞凋亡。科研人员为研究蜂毒素对人胃癌细胞的影响及作用机制,进行了以下实验。请完善实验并回答问题。
方法步骤:
a.取4只相同的培养瓶,编号,分别加入等量的完全培养液并接种等量离体胃癌细胞。
b.1号培养瓶为空白对照,向2-4号培养瓶中分别加入 2、4、8 μg/mL蜂毒素溶液。
c.培养48h后,检测并统计 ,结果如上图-2所示。
d.重复a、b步骤,检测凋亡基因(Bax、Bel-2)的表达,结果如上图-3所示。
分析讨论:
a.图-2表明一定浓度的蜂毒素能诱导胃癌细胞凋亡,并随浓度增大诱导效应 。
b.图-2、图-3表明:从基因水平上看,蜂毒素诱导胃癌细胞凋亡与 有关。当Bel-2蛋白/Bax蛋白的比值出现 趋势时,将会诱导胃癌细胞凋亡。
27(16分)在生物化学反应中,当底物与酶的活性位点形成互补结构时,可催化底物发生变化,如图甲Ⅰ所示。酶的抑制剂是与酶结合并降低酶活性的分子。竞争性抑制剂与底物竞争酶的活性位点,非竞争性抑制剂和酶活性位点以外的其他位点结合,从而抑制酶的活性,如图甲Ⅱ、Ⅲ所示。图乙示意发生竞争性抑制和非竞争性抑制时,底物浓度与起始反应速率的变化曲线图。请据图回答下列问题:
当底物与酶活性位点具有互补的结构时,酶才能与底物结合,这说明酶的催化作用具有 。
(2)现有胃蛋白酶,A试管放置正常温度,B试管放置100度,相同时间处理后,加入双缩脲试剂后,两个试管的颜色深浅是 (A:A管颜色深,B:B管颜色深,C:颜色一样深)
(3)青霉素的化学结构与细菌合成细胞壁的底物相似,故能抑制细菌合成细胞壁相关酶的活性,其原因是 。
(4)据图乙分析,随着底物浓度升高,抑制效力变得越来越小的是 抑制剂,原因是 。
(5)唾液淀粉酶在最适温度条件下的底物浓度与反应速率的变化如图丙。若将温度提高5℃,请在图丙内绘出相应变化曲线。
28.(16分)图甲是采用黑白瓶法测定某池塘夏季各深度24小时内的平均氧浓度变化曲线,纵轴表示水池深度,横轴表示瓶中O2的变化量(g/m2);图乙是某同学“探究影响植物光合速率的因素”的实验装置图。请回答下列问题:
(1)水藻的代谢类型是______________
(2)光照适宜时,水深2 m处每平方米的生产者一小时制造的O2约为________g。
(3)水深3 m时,产生ATP的结构有______________。若将植物从2 m处移到3 m处时,C3的含量将________。
(4)图乙装置中,若实验中每隔5 min改变一次试管与灯泡之间的距离,随着距离的增加,气泡产生速率下降,产生这一结果的原因:①________________;②________________。
(5)图乙中若将水用18O标记,一段时间后,产生了C18O2,请用文字说明该过程:________________________________。
(6)为了探究光照强度对光合速率的影响,利用图乙装置进行实验的另一设计思路是_________________________________________________。
29.(16分)A图表示一个受精卵细胞的一个细胞周期(G1、S、G2组成了分裂间期,分裂期包括前、中、后、末4个时期)中的细胞核内DNA含量的变化曲线;B图表示处于一个细胞周期中各个时期细胞数目的变化,请据图作答:
(1)从分子水平看,间期细胞的主要变化是___________。说出动物和高等植物有丝分裂的区别___________
(2)B图中有四种不同DNA含量的细胞,这些细胞所处的时期相当于A图中细胞周期的________期。Xk b1. Com
(3)能够使B图中DNA含量为2N的细胞所占比例下降,DNA含量为4N的细胞所占比例相对上升的化学试剂不包括________(a.秋水仙素,b.DNA合成抑制剂,c.聚乙二醇)。
(4)A图细胞周期中,染色体数目的最大值及达到最大值的时期分别是________和________。(5)如果染色体的两条姐妹染色单体之间发生部分交换,通常对生物的遗传是否有影响?________________。请简述理由:________________。
30.单质硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图(ABCD)和氢气还原SiCl4的实验装置图,加热部分装置省略(EFGH):
E F G H
相关信息:①四氯化硅遇水极易水解
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物
③有关物质的物理常数见下表:
物质 SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5
沸点/℃ 57.7 12.8 - 315 -
熔点/℃ -70.0 -107.2 - - -
升华温度/℃ - - 180 300 162
(1) 写出工业制备粗硅的方程式 Xk b1. Com
(2) A中所发生的反应的离子方程式 ,
(3) B和C中分别装的试剂名称为 和
(4) 提纯该反应中所得的四氯化硅的方法是 ,制备四氯化硅的实验装置图有一个明显缺陷,请提出改进措施
(5) 氢气还原四氯化硅的装置图中,G装置需要水浴加热,目的是
(6) 氢气还原四氯化硅的装置图中,为保证实验安全,H装置加热之前必须进行的实验操作是
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